D型光ファイバ面上に作ったダイアフラム型光減衰器


Surface Micromachinは通常Siウェハのような平面基板上に製作される。
光ファイバを半分研磨して生成した面に位置合わせして製作した。
研磨した面であるから平面ではないかと思われるかもしれないが、光ファイバ直径は100μmであり、その先は段差である。
段差をかわしてデバイスを製作した。
同じようなコンセプトのデバイスをCornell大学でも2000年に試みていた。

開発者:田口 洋平(当時:M1〜2) , JongHyeong Song(当時:PD)