ダイアフラム型アクチュエータ


当研究室で最初のSurface Micromachineで製作したデバイスである。製作前にpoly-SiとSiNのCVD成膜技術を立ち上げた。記念すべきダイアフラム型デバイスである。
上下に3μm変位している。

開発者:田口 洋平(当時:M1) , JongHyeong Song(当時:PD)